極紫外光源 EUV Light Source

在極紫外光（EUV）的進階應用領域中，TEUS 是一套主打「高亮度、低碎片」的革命性13.5nm雷射電漿極紫外光 (LPP EUV) 光源產品。

為了打造純淨的光子源，TEUS 跳脫了傳統框架，搭載了全新獨創的「快速旋轉液態金屬靶 (fast rotating liquid metal target)」核心技術。

這項獨家設計搭配多重常規防護機制，不僅能為高頻雷射提供完美的靶材表面以實現極致的脈衝穩定度，更實現了純淨無污染的 EUV 光子輸出，能徹底防止任何微小污染粒子進入包含光罩 (reticle)、防護膜 (pellicle) 等極度敏感的元件區域。

透過 TEUS，您將獲得超越以往的極致亮度，並以前所未有的超低總體擁有成本，迎接次世代的 EUV 微影與檢測挑戰。