LW405D
光罩雷射直寫系統 (開發與研究專用) LaserWriter – customized according to each specific research need
LaserWriter是一種直接從電腦輔助設計到基板精密圖案製作的系統。
可以用來製作通用圖案，也可以是用來達成特定研究或生產需求的專用系統。
此系統完全是在無塵室中組裝完成的，由以下部分組成：
• 寫入單元
• 控制單元
• PhotonSteer® 軟體套件
• 環境控制單元（選購）
應用包括直接基板圖案製作以及微電子學、微光學、微波電路、太赫茲技術、微機械、微流體力學、石墨烯技術等的光罩製作。
在任何塗有抗蝕劑的基板上都可以進行圖案製作，例如半導體晶圓或晶片、玻璃、藍寶石、聚合物等。
此系統已通過CE認證。
【產品】
• 1:1縮小版的光罩
• 1:1晶圓
• 1:1晶片
• 1:1凹面/凸面/波浪面
【GaN雷射源】
• 405 nm
• 體積小、重量輕
• 高效率、壽命長
• > 100 mW 可用
• 經過充分驗證
• 直接調變
• 可直接啟動
• 無噪音
【適合族群】
• 大學層級研發
• 工業研發
• 小規模生產
【應用領域】
• 微型和光電子學（二進位）
• 微光學（多層次）
• 整合光學（二進位）
• 微機電系統（二進位、多階）
• 微流體力學（二進位）
• 混合和高密度互連（二進位）
• 微波和太赫茲技術（二進位）
• 光伏（二進位）
• 光電化學
• 奈米管和石墨烯技術
• 表面計量學與診斷
【寫入模式】
• 光束掃描
• 階段掃描
• 向量
可以用來製作通用圖案，也可以是用來達成特定研究或生產需求的專用系統。
此系統完全是在無塵室中組裝完成的，由以下部分組成：
• 寫入單元
• 控制單元
• PhotonSteer® 軟體套件
• 環境控制單元（選購）
應用包括直接基板圖案製作以及微電子學、微光學、微波電路、太赫茲技術、微機械、微流體力學、石墨烯技術等的光罩製作。
在任何塗有抗蝕劑的基板上都可以進行圖案製作，例如半導體晶圓或晶片、玻璃、藍寶石、聚合物等。
此系統已通過CE認證。
【產品】
• 1:1縮小版的光罩
• 1:1晶圓
• 1:1晶片
• 1:1凹面/凸面/波浪面
【GaN雷射源】
• 405 nm
• 體積小、重量輕
• 高效率、壽命長
• > 100 mW 可用
• 經過充分驗證
• 直接調變
• 可直接啟動
• 無噪音
【適合族群】
• 大學層級研發
• 工業研發
• 小規模生產
【應用領域】
• 微型和光電子學（二進位）
• 微光學（多層次）
• 整合光學（二進位）
• 微機電系統（二進位、多階）
• 微流體力學（二進位）
• 混合和高密度互連（二進位）
• 微波和太赫茲技術（二進位）
• 光伏（二進位）
• 光電化學
• 奈米管和石墨烯技術
• 表面計量學與診斷
【寫入模式】
• 光束掃描
• 階段掃描
• 向量
產品特色
• 佔地面積小：75 x 75cm 或 60 x 60cm
• 表面焦點追踪，不受表面平整度與大小的限制
• 可在基板的邊緣進行圖案製作（無死區）
• 直接雷射調變（無聲光調變器）
• 能量劑量範圍廣泛，不僅適用於高解析度作業（使用薄抗蝕劑的微電子、微光學），也適用於低解析度圖案（使用厚抗蝕劑或SU-8的微波電路、印刷電路板、微機電系統、微流體學、太陽能電池等）
• 自動變更最終焦距光學元件，只需按一下滑鼠即可選擇最小線寬或影片放大倍率
• 7種寫入模式：光束掃描、階段掃描、散射掃描、向量、輪廓、閃光、手動
• 友善的Windows介面，學習時間短
• 特別的初學者自學模式
• 操作時不需要特殊的程序或安全措施
• 灰階
• 可選附加紫外線雷射光源（375 nm），用於製作厚的紫外線敏感抗蝕劑圖案
• 表面焦點追踪，不受表面平整度與大小的限制
• 可在基板的邊緣進行圖案製作（無死區）
• 直接雷射調變（無聲光調變器）
• 能量劑量範圍廣泛，不僅適用於高解析度作業（使用薄抗蝕劑的微電子、微光學），也適用於低解析度圖案（使用厚抗蝕劑或SU-8的微波電路、印刷電路板、微機電系統、微流體學、太陽能電池等）
• 自動變更最終焦距光學元件，只需按一下滑鼠即可選擇最小線寬或影片放大倍率
• 7種寫入模式：光束掃描、階段掃描、散射掃描、向量、輪廓、閃光、手動
• 友善的Windows介面，學習時間短
• 特別的初學者自學模式
• 操作時不需要特殊的程序或安全措施
• 灰階
• 可選附加紫外線雷射光源（375 nm），用於製作厚的紫外線敏感抗蝕劑圖案
規格說明
• 刻寫區域：6"x6"(英吋) 或更大
• 基板最大厚度：3 mm（可選擇 10 mm或更厚）
• 最小線寬：0.5、1.6、4、8 µm，由操作者選擇
• 灰階級數：每像素 256 級
• 電子像素大小：從 0.1 到 1 µm
• 最大表面刻寫速度：
◇ 4 mm²/分 @ 0.5 µm 解析度
◇ 12 mm²/分 @ 1.6 µm 解析度
◇ 20 mm²/分 @ 4 µm 解析度
◇ 80 mm²/分 @ 8 µm 解析度
• 機械定位解析度：10 nm
• 黑白 CCD相機，搭配紅光基板照明 (用於視覺監控)
• 步進（粗略）和連續（細緻）的光子劑量調節 (可以精確調節光照劑量)
• 刻寫頭尺存：
◇ 標準尺寸：60 x 60 cm，佔地面積 75 x 75 cm
◇ 緊湊尺寸：45 x 45 cm，佔地面積 60 x 60 cm
• 二進位圖案的輸入格式： GDSII、DXF、CIF、BMP 等
• 多層次圖案的輸入格式： 點陣圖和原始數據
• 標記上的多層對齊
• 基板最大厚度：3 mm（可選擇 10 mm或更厚）
• 最小線寬：0.5、1.6、4、8 µm，由操作者選擇
• 灰階級數：每像素 256 級
• 電子像素大小：從 0.1 到 1 µm
• 最大表面刻寫速度：
◇ 4 mm²/分 @ 0.5 µm 解析度
◇ 12 mm²/分 @ 1.6 µm 解析度
◇ 20 mm²/分 @ 4 µm 解析度
◇ 80 mm²/分 @ 8 µm 解析度
• 機械定位解析度：10 nm
• 黑白 CCD相機，搭配紅光基板照明 (用於視覺監控)
• 步進（粗略）和連續（細緻）的光子劑量調節 (可以精確調節光照劑量)
• 刻寫頭尺存：
◇ 標準尺寸：60 x 60 cm，佔地面積 75 x 75 cm
◇ 緊湊尺寸：45 x 45 cm，佔地面積 60 x 60 cm
• 二進位圖案的輸入格式： GDSII、DXF、CIF、BMP 等
• 多層次圖案的輸入格式： 點陣圖和原始數據
• 標記上的多層對齊
