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雷射電漿光源 - XWS-X - 阜拓科技
XWS-X
雷射電漿光源
在 XWS 光源中,由於來自雷射的連續能量輸入與所使用的氣體介質(光放電)之間的相互作用,等離子體會發光。這些光源已被開發為傳統氣體放電燈(氙氣、氘、鎢等)和 LED 的替代品。與這些相比,XWS 光源具有更寬的光譜範圍和更高的光譜亮度。
.與XWS-65 UV相比,在整個光譜範圍內的亮度顯著提高
.最大光譜亮度高達 140 mW / (mm² sr.nm)
.與XWS-65 UV相比,在250 nm以下紫外線範圍內的亮度提高了6倍
.最大的時間與空間穩定性:STD 0.05%
.可選擇配備後向反射器
.支援雙接頭
.輸出配置:自由空間或光纖耦合
.可選擇配備風冷 / 水冷光學頭
.可經由以下連接方式透過筆記型電腦 / 個人電腦進行外部來源控制和參數監控:
-RJ45(乙太網路,Web介面)
-COM接頭(RS-232)
◆ 應用領域
.吸收光譜學及螢光光譜學
.顯微鏡,包括共焦和螢光
.微電子診斷系統(污染與缺陷控制)
.薄膜和臨界尺寸(CD)量測
.色譜分析、微流體學、晶片實驗室、液滴光譜儀、細胞螢光計等的偵測器
.生物醫學應用(光動力療法等)
.增材技術(光聚合)
.人造陽光系統(測試系統、照明等)
MODEL |
XWS-X |
SOURCE
PERFORMANCE |
|
Spectral
range 190 - 2500 nm UV configuration |
✅ |
Spectral
range 250 - 2500 nm OFR configuration |
❌ |
Maximum
spectral brightness for UV configuration |
105/120/130 |
Maximum
spectral brightness for OFR configuration |
❌ |
Output power
Free space |
up to 1.5 W |
Output power
via fiber 600 µm, mW min / avg / max |
510 / 575 /
650 |
Emitting
body size for UV configuration (spectral range 350 - 550 nm), µm |
150x260 |
Lifetime
(hours) |
10000 |
Temporal and
spatial stability |
STD <
0.05% |
Lamp medium |
Xenon |