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雙光子聚合物(2PP)3D雷射微列印設備
阜拓科技股份有限公司專注於專業雙光子聚合物(2PP)3D雷射微列印設備領域，我們以多年累積的核心技術及經驗，配合顧客的各種需求，提供高品質的雙光子聚合物(2PP)3D雷射微列印設備產品服務。我們提供雷射精密微加工系統 Laser Precision Micromachining System詳細產品服務資訊，歡迎您利用表單方式與我們聯繫，我們將竭誠為您服務。
Quantum X
Quantum X 量子 X
Nanoscribe Quantum X 是世界上第一台雙光子灰階光刻系統，用於折射和衍射微光學及表面圖案的無光罩微加工
使用雙光子灰階光刻技術進行工業製造
世界上第一台雙光子灰階光刻 （2GL） ® 系統結合了灰階光刻的非凡性能以及 Nanoscribe 開創性的雙光子聚合 （2PP） 技術的精度和靈活性。
Quantum X 作為無光罩光刻系統，是 2.5D 自由曲面微光學元件、微透鏡陣列和多級衍射光學元件工業製造的最佳工具。
工業表現
Quantum X 使用高速同步雷射功率調變來控制沿一個掃描平面的體素尺寸。以這種方式，可以產生複雜的形狀，並且可以在一個掃描區域內實現可變的特徵高度。
借助雙光子灰階光刻 （2GL） 技術，不需額外的光刻步驟或製作光罩，即可在最大 6 英寸的晶圓基板上列印出離散且精確的層次，甚至接近連續的拓撲結構。2GL技術提供了很大的設計自由度，促進了微加工的應用，並支持多種工業製造任務的實現。
工業母帶製作
Quantum X 專為工業製造和複製過程中的快速原型製造以及母版製作而設計。憑藉雙光子灰階光刻的性能，這種無光罩光刻系統重新定義了自由形狀微光學元件、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的製造。
工業標準
通過裝置的整合觸控螢幕控制您的列印作業。即使在辦公室，也可以透過 nanoConnectX 在多系統或多使用者配置中密切關注您的雙光子灰階光刻系統。並受益於工業標準和高效的晶圓級量產，實現出色的工業製造。
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使用雙光子灰階光刻技術進行工業製造
世界上第一台雙光子灰階光刻 （2GL） ® 系統結合了灰階光刻的非凡性能以及 Nanoscribe 開創性的雙光子聚合 （2PP） 技術的精度和靈活性。
Quantum X 作為無光罩光刻系統，是 2.5D 自由曲面微光學元件、微透鏡陣列和多級衍射光學元件工業製造的最佳工具。
工業表現
Quantum X 使用高速同步雷射功率調變來控制沿一個掃描平面的體素尺寸。以這種方式，可以產生複雜的形狀，並且可以在一個掃描區域內實現可變的特徵高度。
借助雙光子灰階光刻 （2GL） 技術，不需額外的光刻步驟或製作光罩，即可在最大 6 英寸的晶圓基板上列印出離散且精確的層次，甚至接近連續的拓撲結構。2GL技術提供了很大的設計自由度，促進了微加工的應用，並支持多種工業製造任務的實現。
工業母帶製作
Quantum X 專為工業製造和複製過程中的快速原型製造以及母版製作而設計。憑藉雙光子灰階光刻的性能，這種無光罩光刻系統重新定義了自由形狀微光學元件、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的製造。
工業標準
通過裝置的整合觸控螢幕控制您的列印作業。即使在辦公室，也可以透過 nanoConnectX 在多系統或多使用者配置中密切關注您的雙光子灰階光刻系統。並受益於工業標準和高效的晶圓級量產，實現出色的工業製造。
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Quantum X align
Quantum X 對準
Quantum X align作為一流的3D列印系統，具有A2PL®專利對準雙光子光刻技術，可在光纖和光子晶片上實現奈米級精確對準。
使用2GL®的3D列印在實現優異的列印品質同時兼顧列印速度，適用於微光學製造和光子封裝領域。
使用2GL® 進行3D 列印，採用奈米級精確對準系統
具備對準雙光子光刻技術 (A2PL®) 的 Quantum X align，是同類型產品中最快、最先進的 3D 微奈米加工系統。
Nanoscribe 專有的體素調諧技術 2GL® 可以在確保卓越的列印品質的同時兼顧列印速度，實現自由曲面微光學元件透過 3D 列印精確對準到光纖或光子晶片的光學軸線上。
這些 3D 列印的微光學元件可作為自由空間微光學耦合 (FSMOC) 元素，實現光子器件之間的高效光耦合，以促進光子封裝或用於微型成像光學發展。
從對準到列印一氣呵成
整合光子學 (PIC) 或小型化醫療設備的封裝，通常需要各種微光學元件彼此之間進行繁瑣的放置和手動對準流程。
Quantum X align 完美簡化了這個過程，實現了光子晶片或光纖芯上的光學接口自動偵測，以及自由曲面微光學或衍射元件可直接列印到位。
在實現更緊湊的設備同時，減少了裝配誤差，並大大降低了製程鏈的複雜性，避免了原本耗資巨大的手動對準流程。
對準光纖和光子晶片
當在單劈型光纖或 V 型槽光纖陣列上列印時，光纖照明單元和智慧型軟體例程（例如自動傾斜補償功能）確保了精確對準，自動偵測例程確保最低的耦合損失和最高的重覆性。
Quantum X Align 還配置了一個用於基板拓撲 3D 建模的共焦偵測模組，並透過圖案比對實現對基準點的全自動 3D 對準。這使得 Quantum X align 成為將微光學元件直接列印到光子晶元表面或刻面上的完美工具，適用於光子封裝領域。
精準實現您的想法
對準雙光子光刻技術結合奈米級精確對準技術，以及強大且使用者友善的工作流程，為三維微納光學以外的其他微納加工應用開闢了新的機會。
從微流體到複雜的感測器系統或 MEMS：Quantum X align 是高精度 3D 微納加工的完美工具，可在複雜 3D 基板，甚至是傾斜或傾斜的結構上，以最高精度實現自動定位。
技術特點
• 透過對準雙光子光刻技術（A2PL®）實現高性能3D微納加工
• 2GL®雙光子灰階光刻3D列印技術，兼顧卓越的列印品質和高效的列印速度
• 用於3D列印的強大的nanoPrintX軟體，可精確對準晶片以及其他基材上的纖維芯和基準點
• 用於光纖纖芯檢測的光纖照明裝置 確保列印精確對準光纖的光軸
• 用於 3D 基板形貌映射的共聚焦檢測模組 可在晶片表面和刻面上實現精確對準的列印
• 用於光纖、光纖陣列和光子晶元的專有基板支架
列印程序和工作流程
• 基於雙光子聚合（2PP）的高精度3D列印
• 對準雙光子光刻技術(A2PL®)用於列印相對於基準點或纖維刻面的結構
• 2GL®的3D列印技術，可快速、準確地列印任何自由形狀設計
• 採用浸入式雷射光刻（DiLL）進行簡單而穩定的設定
• 3D對位檢測精度低至100奈米
• 特徵尺寸控制低至100奈米
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使用2GL®的3D列印在實現優異的列印品質同時兼顧列印速度，適用於微光學製造和光子封裝領域。
使用2GL® 進行3D 列印，採用奈米級精確對準系統
具備對準雙光子光刻技術 (A2PL®) 的 Quantum X align，是同類型產品中最快、最先進的 3D 微奈米加工系統。
Nanoscribe 專有的體素調諧技術 2GL® 可以在確保卓越的列印品質的同時兼顧列印速度，實現自由曲面微光學元件透過 3D 列印精確對準到光纖或光子晶片的光學軸線上。
這些 3D 列印的微光學元件可作為自由空間微光學耦合 (FSMOC) 元素，實現光子器件之間的高效光耦合，以促進光子封裝或用於微型成像光學發展。
從對準到列印一氣呵成
整合光子學 (PIC) 或小型化醫療設備的封裝，通常需要各種微光學元件彼此之間進行繁瑣的放置和手動對準流程。
Quantum X align 完美簡化了這個過程，實現了光子晶片或光纖芯上的光學接口自動偵測，以及自由曲面微光學或衍射元件可直接列印到位。
在實現更緊湊的設備同時，減少了裝配誤差，並大大降低了製程鏈的複雜性，避免了原本耗資巨大的手動對準流程。
對準光纖和光子晶片
當在單劈型光纖或 V 型槽光纖陣列上列印時，光纖照明單元和智慧型軟體例程（例如自動傾斜補償功能）確保了精確對準，自動偵測例程確保最低的耦合損失和最高的重覆性。
Quantum X Align 還配置了一個用於基板拓撲 3D 建模的共焦偵測模組，並透過圖案比對實現對基準點的全自動 3D 對準。這使得 Quantum X align 成為將微光學元件直接列印到光子晶元表面或刻面上的完美工具，適用於光子封裝領域。
精準實現您的想法
對準雙光子光刻技術結合奈米級精確對準技術，以及強大且使用者友善的工作流程，為三維微納光學以外的其他微納加工應用開闢了新的機會。
從微流體到複雜的感測器系統或 MEMS：Quantum X align 是高精度 3D 微納加工的完美工具，可在複雜 3D 基板，甚至是傾斜或傾斜的結構上，以最高精度實現自動定位。
技術特點
• 透過對準雙光子光刻技術（A2PL®）實現高性能3D微納加工
• 2GL®雙光子灰階光刻3D列印技術，兼顧卓越的列印品質和高效的列印速度
• 用於3D列印的強大的nanoPrintX軟體，可精確對準晶片以及其他基材上的纖維芯和基準點
• 用於光纖纖芯檢測的光纖照明裝置 確保列印精確對準光纖的光軸
• 用於 3D 基板形貌映射的共聚焦檢測模組 可在晶片表面和刻面上實現精確對準的列印
• 用於光纖、光纖陣列和光子晶元的專有基板支架
列印程序和工作流程
• 基於雙光子聚合（2PP）的高精度3D列印
• 對準雙光子光刻技術(A2PL®)用於列印相對於基準點或纖維刻面的結構
• 2GL®的3D列印技術，可快速、準確地列印任何自由形狀設計
• 採用浸入式雷射光刻（DiLL）進行簡單而穩定的設定
• 3D對位檢測精度低至100奈米
• 特徵尺寸控制低至100奈米
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Quantum X bio
Quantum X 生物
世界上最精確的 3D 生物列印機，可通過多種生物相容性材料（包括合成材料和天然來源）實現多種生物和生物醫學應用
世界上最精確的3D 生物列印機
Quantum X bio 是一款功能強大、用途廣泛的生物列印機，具有最高的解析度。由雙光子聚合 （2PP） 提供支援，並以卓越的工程技術為基礎，通過生物學家的視角進行客製化和重新構想。
基於光的 3D 生物列印機提供一些基本功能，例如精確的溫度和濕度控制、HEPA 過濾氣流以及預混合空氣/二氧化碳連接。
各種功能化生物材料可用於解鎖生物列印的新水準，並有效加速組織工程、微生物學、材料工程和生物醫學設備的創新。
先進的生物醫學應用
以無與倫比的精度和速度列印幾乎任何 3D 設計，簡化您的研究，並受益於 Nanoscribe 以及我們的合作夥伴 Advanced BioMatrix、CELLINK 和 BIO INX 提供的各種生物相容性丙烯酸酯、生物材料和生物樹脂。即使是有機和複雜的 3D 結構，也可以透過觸控螢幕輕按一下精確地列印到微流體通道中。
這使得 Quantum X bio 成為最佳的雙光子光刻工具，可為組織工程創建生理相關的微環境，為細胞研究創建定製支架，以及許多其他注重精度、速度、生物相容性材料和無菌性的創新生物醫學應用。
微尺度及其他領域的生物列印
Quantum X bio 讓您處於探索全方位生物和生物醫學應用的最前沿。利用生物列印室，它創造了一個具有溫度和濕度控制、HEPA 過濾氣流以及預混合空氣/二氧化碳連接的無菌環境，隨時可以處理水性生物材料和細胞。生物列印室實現的環境控制和無菌性確保了在使用水性生物材料、生物樹脂和定製材料進行列印時具有最佳性能。有了 Quantum X bio，您已準備好探索在生物樹脂中的細胞包埋技術，實現活細胞列印。
生物列印庫和數據驅動的工作流程
使用Quantum X bio，您將受益於Nanoscribe易於使用的軟體和直覺的觸控螢幕控制，並透過我們經過驗證的生物列印模型庫得到增強。列印過程中記錄溫度和濕度數據可確保生物列印室中的細胞友善條件。
直接從裝置的觸控螢幕或使用 nanoConnectX 從電腦遠端載入、啟動和監控您的列印作業。
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世界上最精確的3D 生物列印機
Quantum X bio 是一款功能強大、用途廣泛的生物列印機，具有最高的解析度。由雙光子聚合 （2PP） 提供支援，並以卓越的工程技術為基礎，通過生物學家的視角進行客製化和重新構想。
基於光的 3D 生物列印機提供一些基本功能，例如精確的溫度和濕度控制、HEPA 過濾氣流以及預混合空氣/二氧化碳連接。
各種功能化生物材料可用於解鎖生物列印的新水準，並有效加速組織工程、微生物學、材料工程和生物醫學設備的創新。
先進的生物醫學應用
以無與倫比的精度和速度列印幾乎任何 3D 設計，簡化您的研究，並受益於 Nanoscribe 以及我們的合作夥伴 Advanced BioMatrix、CELLINK 和 BIO INX 提供的各種生物相容性丙烯酸酯、生物材料和生物樹脂。即使是有機和複雜的 3D 結構，也可以透過觸控螢幕輕按一下精確地列印到微流體通道中。
這使得 Quantum X bio 成為最佳的雙光子光刻工具，可為組織工程創建生理相關的微環境，為細胞研究創建定製支架，以及許多其他注重精度、速度、生物相容性材料和無菌性的創新生物醫學應用。
微尺度及其他領域的生物列印
Quantum X bio 讓您處於探索全方位生物和生物醫學應用的最前沿。利用生物列印室，它創造了一個具有溫度和濕度控制、HEPA 過濾氣流以及預混合空氣/二氧化碳連接的無菌環境，隨時可以處理水性生物材料和細胞。生物列印室實現的環境控制和無菌性確保了在使用水性生物材料、生物樹脂和定製材料進行列印時具有最佳性能。有了 Quantum X bio，您已準備好探索在生物樹脂中的細胞包埋技術，實現活細胞列印。
生物列印庫和數據驅動的工作流程
使用Quantum X bio，您將受益於Nanoscribe易於使用的軟體和直覺的觸控螢幕控制，並透過我們經過驗證的生物列印模型庫得到增強。列印過程中記錄溫度和濕度數據可確保生物列印室中的細胞友善條件。
直接從裝置的觸控螢幕或使用 nanoConnectX 從電腦遠端載入、啟動和監控您的列印作業。
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Quantum X shape
Quantum X 形狀
最快最精准的3D微奈加工設備
Quantum X shape 是一款真正全能的機型。
基於雙光子聚合原理（2PP）的客製化3D雷射光刻系統，提供獨特的3D列印技術，使其成為幾乎任何2.5D和3D形狀快速原型製作與晶圓級量產加工的最佳工具，同時具備亞微米級的精度與準確度。
重新定義高精度
高解析度3D列印系統Quantum X shape 具備多功能3D微奈加工能力，擁有無可比擬的列印精度，比肩於Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰階光刻(2GL®)。
全新的Quantum X shape 的高精度仰賴其體素調節能力與超精細處理網格，進而實現亞體素的尺寸控制。
此外，得益於雙光子灰階光刻對體素的微調，該系統在製作表面微結構時能達到超光滑效果，同時保持高精度的形狀控制。
重新定義高產量
Quantum X shape 是最理想的增材製造工具，適用於多種應用，例如生物醫學設備、微光學、微機電系統（MEMS）、微流體、表面工程等。
無論您的需求涉及亞微米特徵尺寸或公分級物件的大量輸出，Quantum X Shape 的四套列印套件均可為奈米、微觀、中觀及宏觀尺度提供客製化解決方案。
重新定義實用性
您可以透過設備的整合觸控螢幕來管理列印工作；透過系統自帶的 nanoConnectX 軟體進行列印檔案的遠端監控及多使用者的設定功能。
此外，透過高解析度3D列印技術，可實現符合業界標準的晶圓高效量產，處理1至8英吋的標準矽或熔融石英晶圓，讓少量生產更加便捷。
技術特點概要
• 在簡單的工作流程中實現具有最高精度和設計自由度的快速原型設計
• 工業驗證的晶圓級量產
• 200 個典型的中尺度結構可在一夜之間列印
• 使用全新XLF列印套件，一次實現列印30立方公分的列印量
• 廣泛適用於特定應用及通用列印材料
• 模組化、可依需求客製化的系統
列印流程及尺寸範圍
• 基於雙光子聚合的高解析度3D列印技術
• 雙光子灰階光刻技術可實現驚人的快速和奈米級精確表面圖案
• 奈米級列印 – SF 列印套件，可在 x/y 方向上控制特徵尺寸，最小可達 100 奈米
• 微尺度列印 – MF 列印套件，用於列印 50 至 700 微米的典型尺寸
• 中尺度列印 – LF 列印套件，尺寸可達幾毫米
• 宏觀列印 – XLF Print Set 可加快公分級物體的量產速度，最大尺寸為50 x 50 x 12 mm³
適用範圍
多功能高精度 3D 微奈加工系統，適用於研究實驗室和多使用者的設施，在以下領域具有最高的列印品質及產量需求：
• 生命科學
• 材料工程
• 微流體
• 微觀力學及微機電系統
• 折射微光學
• 衍射微光學
• 積體光子學
專為科研和工業領域的創新者而設計，旨在發掘高解析度 3D 微奈加工和增材製造的全部潛力
• 快速原型製作
• 量產以及少量生產
• 晶圓級微奈加工
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Quantum X shape 是一款真正全能的機型。
基於雙光子聚合原理（2PP）的客製化3D雷射光刻系統，提供獨特的3D列印技術，使其成為幾乎任何2.5D和3D形狀快速原型製作與晶圓級量產加工的最佳工具，同時具備亞微米級的精度與準確度。
重新定義高精度
高解析度3D列印系統Quantum X shape 具備多功能3D微奈加工能力，擁有無可比擬的列印精度，比肩於Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰階光刻(2GL®)。
全新的Quantum X shape 的高精度仰賴其體素調節能力與超精細處理網格，進而實現亞體素的尺寸控制。
此外，得益於雙光子灰階光刻對體素的微調，該系統在製作表面微結構時能達到超光滑效果，同時保持高精度的形狀控制。
重新定義高產量
Quantum X shape 是最理想的增材製造工具，適用於多種應用，例如生物醫學設備、微光學、微機電系統（MEMS）、微流體、表面工程等。
無論您的需求涉及亞微米特徵尺寸或公分級物件的大量輸出，Quantum X Shape 的四套列印套件均可為奈米、微觀、中觀及宏觀尺度提供客製化解決方案。
重新定義實用性
您可以透過設備的整合觸控螢幕來管理列印工作；透過系統自帶的 nanoConnectX 軟體進行列印檔案的遠端監控及多使用者的設定功能。
此外，透過高解析度3D列印技術，可實現符合業界標準的晶圓高效量產，處理1至8英吋的標準矽或熔融石英晶圓，讓少量生產更加便捷。
技術特點概要
• 在簡單的工作流程中實現具有最高精度和設計自由度的快速原型設計
• 工業驗證的晶圓級量產
• 200 個典型的中尺度結構可在一夜之間列印
• 使用全新XLF列印套件，一次實現列印30立方公分的列印量
• 廣泛適用於特定應用及通用列印材料
• 模組化、可依需求客製化的系統
列印流程及尺寸範圍
• 基於雙光子聚合的高解析度3D列印技術
• 雙光子灰階光刻技術可實現驚人的快速和奈米級精確表面圖案
• 奈米級列印 – SF 列印套件，可在 x/y 方向上控制特徵尺寸，最小可達 100 奈米
• 微尺度列印 – MF 列印套件，用於列印 50 至 700 微米的典型尺寸
• 中尺度列印 – LF 列印套件，尺寸可達幾毫米
• 宏觀列印 – XLF Print Set 可加快公分級物體的量產速度，最大尺寸為50 x 50 x 12 mm³
適用範圍
多功能高精度 3D 微奈加工系統，適用於研究實驗室和多使用者的設施，在以下領域具有最高的列印品質及產量需求：
• 生命科學
• 材料工程
• 微流體
• 微觀力學及微機電系統
• 折射微光學
• 衍射微光學
• 積體光子學
專為科研和工業領域的創新者而設計，旨在發掘高解析度 3D 微奈加工和增材製造的全部潛力
• 快速原型製作
• 量產以及少量生產
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