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燈泵浦 Lamp-pumped
NANO 系列
小型化 Q-Switched Nd:YAG 雷射
Litron的Nano系列:小巧但性能強大的Q-Switched Nd:YAG 雷射,適用於多種應用,包括光罩修復、LIBS、LIDAR、PIV、泵浦源和光譜學。
Nano系列脈衝Q-Switched Nd:YAG雷射在滿足當今客戶的需求。其在各方面的性能均領先業界,設計和製造質量無與倫比,Nano系列樹立了當今雷射系統的新標杆。
Nano系列所有雷射的核心是一個由整塊鋁加工而成的堅固單片共振器,形成了系統構建的穩固平台。超穩定的鏡架、不銹鋼泵浦腔室與緊密耦合的陶瓷反射器,以及專有的長壽命閃光燈,確保了均勻穩定的輸出。
倍頻產生器和可變衰減器等配件作為模組化可根據需要額外添加組合和移除。對多可提供到第五次倍頻諧波(213nm)的轉換模組。
所有系列雷射均配備了完全整合的電源和冷卻單元,無需外部水源。所有電源均具有完整的互鎖套件,使設置和故障診斷變得簡單。行業標準的TTL接口允許外部控制閃光燈和Q-Switched 。其他系統控制可通過提供的系統遙控器或RS232通訊。
- Nano雷射提供靈活的倍頻輸出模組選擇。
- 所有Nano倍頻模組均可選配馬達驅動的1064nm可變光學衰減器。
【應用領域】
- LIBS & Spectroscopy
- LIDAR & Remote sensing
- Sensor diagnostics
- Metrology
- Material processing
- Ablation
- Pump source
- Photochemistry
- Non linear optics
- Ultrasonic testing
- Flash photolysis
- LIF & ESPI
TRLi 系列
高能量、高重複率 Q-Switched Nd:YAG 雷射
TRLi 系列提供高達 850 mJ 的能量和高達 300 Hz 的重頻率。這個系列提供了完全雙折射補償的脈衝雷射系統,具有高能量和高重頻率輸出。其雙棒架構確保即使在非常高的平均功率輸出下也能保持高光束均勻性。
TRLi 設計適合要求苛刻的工業應用,配備由整塊鋁加工而成的密封雷射頭、超穩定的鏡架和業界領先的燈泡壽命。共振腔選項包括不穩定高斯耦合、穩定和穩定望遠鏡配置,適用於多種應用。
倍頻波長可直接由自動調諧的模組附加實現 (532nm, 355nm, 266nm 及 213nm) ,可以根據需要添加或移除。該系列的電源包括最先進的IGBT 開關技術,用於閃光燈,增加了效率和穩定性,並顯著延長燈泡壽命,因為電流更低。
智能雷射頭技術允許輕鬆更換雷射頭和電源,並可選擇全自動跟踪倍頻波長。自動跟踪持續監控倍頻輸出能量並主動控制晶體的相位匹配角度,以確保始終達到最大轉換效率和輸出。
雷射可透過 ”LUCi” 觸控式操作平板進行控制,為用戶提供簡單直觀的界面,全面設定控制所有系統內容和讀取系統資訊。
”LUCi”觸控式操作平板
可自由添加或移除的倍頻模組

【應用領域】
- OPO Pumping
- Ti:Sa Pumping
- Dye Laser Pumping
- Deflashing
- Cleaning
- Spectroscopy
- LIBS
- LIDAR
- LIDT
- Flash Photolysis
- Ablation
- Pulsed Laser Deposition
- Photoacoustic Imaging
- Combustion Research
LPY 系列
超高能量Q-Switched Nd:YAG 雷射
LPY系列具有高能量和高性能的脈衝Nd:YAG雷射,於1064nm輸出最高可達10J能量 ,適用於工業和科學應用。
LPY系列脈衝雷射旨在滿足幾乎所有需要高能量或高規格Nd:YAG雷射的工業或研究應用。基於完全自支撐的不變鋼材質導軌,LPY系列展示了卓越的機械和熱穩定性。
雷射頭的模組化設計允許提供多種共振腔配置,從單棒振盪器到完全雙折射補償的雙棒振盪器、雙棒放大器系統。此外,還提供穩定、穩定望遠鏡或超高斯耦合共振腔的選擇,允許客戶指定適合其需求的系統。
”LUCi”觸控式操作平板
全自動馬達調整倍頻模組
所有倍頻都可選配自動追蹤和自動調諧功能。
系統會在啟動時或根據需求自動達到輸出能量峰值。
自動追蹤在操作過程中持續尋找最大化輸出能量,而自動調諧則會根據需求最大化輸出。
馬達驅動的倍頻切換允許遠程切換輸出波長。當與馬達驅動的倍頻諧波生成和馬達驅動的光學鏡一起作用時,每個可配置的波長都可以通過按下按鈕遠程選擇和優化。
【應用領域】
- Dye, OPO and Ti:Sa pumping
- Spectroscopy
- LIBS
- LIDAR
- LIDT
- Laser Shock Peening
- Pulsed Laser Deposition
- Thomson Scattering
PIV 系列
PIV 專用雷射
Litron 提供多種閃光燈泵浦與二極體泵浦 PIV 雷射系統,每個雷射的單脈衝輸出能量可達 425mJ,閃光燈泵浦系統的重複頻率最高可達 200Hz,而二極體泵浦系統的重複頻率最高可達 50kHz。
所有系統皆為雙雷射頭設備,即 PIV 雷射頭包含兩個完全獨立的雷射。PIV 系統的產品系列涵蓋微小型 Nano 系列以及較大型的不變鋼穩定 LPY 和 LD PIV 系列。
在任何影像應用中,雷射光束的品質至關重要,因為它決定了light sheet 層光的特性。透過選擇合適的共振腔配置,可以控制輸出光束品質,以提供非常平滑的空間分佈,並在遠場傳播時保持均勻性。這類共振腔通常為穩定型或穩定望遠型配置。
超高斯耦合共振腔通常不適用於可視化應用。這類共振腔能夠在遠場產生良好的超高斯空間分佈並具備低發散度,但在近場至中間場(雷射輸出 10 公尺內),光束的空間分佈通常具有顯著的結構特徵。這種現象是該共振腔設計的典型特性,也是系統物理原理的結果,使其不適用於形成均勻的層光。
針對 PIV 應用,Litron 開發了能夠產生極為均勻層光的共振腔,其脈衝間的結構始終保持一致,這些均基於穩定型與穩定望遠型共振腔。
【應用領域】
- PIV
- Time-resolved PIV
- PLIF
- LIF
- Holography
- ESPI
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