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阜拓科技股份有限公司

極紫外光源 EUV Light Source

阜拓科技股份有限公司專注於專業極紫外光源 EUV Light Source領域,我們以多年累積的核心技術及經驗,配合顧客的各種需求,提供高品質的極紫外光源 EUV Light Source產品服務。我們提供光源與雷射 Light Source & Laser詳細產品服務資訊,歡迎您利用表單方式與我們聯繫,我們將竭誠為您服務。

TEUS - LPP EUV light source with high brightness and low debris

極紫外光

TEUS - LPP EUV 光源,高亮度低碎屑 LPP EUV 光源基於快速旋轉的液態金屬靶。採用傳統碎片減緩技術的新型 LPP 靶為清潔光子 EUV 源提供了最終解決方案。

TEUS S-100 EUV LIGHT SOURCE

極紫外光源

高負載循環且為一站式的系統方案,使用者友善並搭載自動通訊協定,確保系統平穩運行,無風險、不中斷。

• 高亮度 (即高輸出),同時具有卓越的穩定性
• 極少殘留物
• 極高的運作時間

◆ 應用領域 - 光罩表面檢查:
圖形光罩檢測 (PMI)
區域光罩檢測 (AIMS)
光罩基板檢測 (MBI)
EUV 掃描儀偵測中的 EUV 光學鏈
材料科學
晶圓檢查


TEUS S-200 EUV LIGHT SOURCE

極紫外光源

高負載循環且為一站式的系統方案,使用者友善並搭載自動通訊協定,確保系統平穩運行,無風險、不中斷。

• 高亮度 (即高輸出),同時具有卓越的穩定性
• 極少殘留物
• 極高的運作時間

◆ 應用領域 - 光罩表面檢查:
圖形光罩檢測 (PMI)
區域光罩檢測 (AIMS)
光罩基板檢測 (MBI)
EUV 掃描儀偵測中的 EUV 光學鏈
材料科學
晶圓檢查


TEUS S-400 EUV LIGHT SOURCE

極紫外光源

高負載循環且為一站式的系統方案,使用者友善並搭載自動通訊協定,確保系統平穩運行,無風險、不中斷。

• 高亮度 (即高輸出),同時具有卓越的穩定性
• 極少殘留物
• 極高的運作時間

◆ 應用領域 - 光罩表面檢查:
圖形光罩檢測 (PMI)
區域光罩檢測 (AIMS)
光罩基板檢測 (MBI)
EUV 掃描儀偵測中的 EUV 光學鏈
材料科學
晶圓檢查


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